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XF-506水基清洗剂

    水基清洗剂XF-506是以去离子水作为主溶剂,与表面活性剂、助溶剂添加剂等组成。含有高渗透作用的混合溶剂经去离子水稀释后,作为一种高效、高规格、环保安全的清洗剂配合超声波清洗机实现对污染物的清洗过程。


产品特点

产品性质温和、扩展性好,表面张力高,高渗透性,最大限度地减少固体积聚。
粘度低、流动性好、能适应微细间隙部分的清洗,工艺窗口广阔。            
对焊料无腐蚀性,使焊点更光亮。          
无挥发性有机化合物(VOC)。        
属于易燃易爆危险化学品。符合RoHSHF法规标准                

采用去离子水做溶剂,无闪点,使用方便,不需要额外的防爆措施。


应用范围

  广泛应用于清洗SMT/THTPCBA焊接后的松香/助焊剂残留、金属表面油污。各类精密摄像头模块、PC 摄像头、指纹模块、手机摄像头、车载摄像头、监控摄像头MicroBGASFlip-Chips等高新元器件的高清洁度的清洗。

 

加液比例(参考)

1. 应用于PCBA松香残留清洗时,按1:6(水基清洗剂1,去离子水6)稀释搅拌均匀后清洗15-20分钟。

2. 应用于摄像头模块、指纹模块、MicroBGASFlip-Chips等精密组件残留清洗时,按120(水基清洗剂1,去离子水20),清洗15-20分钟。可根据产品污染程度适当调整比例。

3. 有必要漂洗时,采用100%的去离子水清洗15-20分钟。